多重曝光的顏色最佳化考慮因素 - 電子工程專輯

多重曝光的顏色最佳化考慮因素

在先進製程節點中，達到最佳效能與良率都需要超越設計規則的最低要求以最佳化 Layout。任何多重曝光 Layout 都有可通過設計規則檢查 (DRC) 的多種著色配置。然而選擇最佳的著色解決方案可以改善製程良率以及效能極限。瞭解 Calibre Multi-Patterning 自動化著色解決方案及其內建的分析功能，如何大幅簡化最佳著色解決方案的選擇，無論 Layout 複雜度如何。

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August 04, 2020 at 10:00AM
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